首页 / 最新最前沿的科技成果 / 一种真空抽气系统
主要技术指标(或参数): 2.45G 微波等离子体 ● 应用领域: 芯片制造中硅晶圆的生产环节中高洁净空间的制备。 真空焊接环节中高洁净空间的制备。 试验检测环节中高洁净空间的制备。 托卡马克等实验室环节中高洁净空间的制备。 ● 市场前景: 此项目,原理技术和应用效果有突破性,涉及带动的领域广,具有巨大的经 济效益。 一种真空抽气系统的设计、制造、建设、运行及实验,是多种学科和技术的 综合。设计高科技工艺的基础,尤其是高洁净真空环境的获得。对支持和帮助一 些重要企业的发展,对提高其技术水平和研发能力,增强其国际竞争力都有重要意义。 ● 拟转化的方式(或合作模式): 可采用研究所与企业通过成果转让或技术入股等方式,共同推进该成果的产 业化。